真空鍍膜表面不光滑可能有多種原因，以下是一些可能的原因：

1. 基材表面不干凈：在鍍膜前，如果基材表面存在灰塵、污垢或者顆粒等雜質，就會影響鍍膜的效果，導致表面不光滑。因此，在進行真空鍍膜前，需要對基材表面進行徹底清潔。

2. 真空室不干凈：除了基材表面外，真空室內部的灰塵、顆粒等雜質也會影響鍍膜效果，導致表面不光滑。因此，在鍍膜前，需要對真空室進行徹底清潔。

3. 蒸發源不干凈：蒸發源是鍍膜過程中的重要組成部分，如果蒸發源內部存在雜質或者結垢等，就會影響膜層的均勻性和光滑度。因此，在鍍膜前，需要對蒸發源進行徹底清潔。

4. 真空度不夠：真空度是影響鍍膜效果的重要因素之一。如果真空度不夠高，就會導致氣體分子過多，從而影響膜層的均勻性和光滑度。因此，在進行真空鍍膜時，需要保證真空室的真空度達到要求。

5. 基材與膜材料不匹配：不同的基材和膜材料之間具有不同的特性，如果基材與膜材料不匹配，就可能導致鍍膜效果不佳，表面不光滑。因此，在進行真空鍍膜時，需要根據不同的基材和膜材料進行選擇和匹配。

6. 蒸發速率過快或過慢：蒸發速率過快或過慢都會影響鍍膜的均勻性和光滑度。如果蒸發速率過快，可能會導致膜層厚度不均勻，產生粗糙表面；如果蒸發速率過慢，則可能會導致膜層結構松散，表面不平整。因此，在進行真空鍍膜時，需要根據具體情況調整蒸發速率。

7. 溫度過高或過低：溫度是影響真空鍍膜效果的重要因素之一。如果溫度過高或過低，都會導致鍍膜效果不佳，表面不光滑。因此，在進行真空鍍膜時，需要保證溫度在合適的范圍內。

總之，真空鍍膜表面不光滑的原因可能有很多種，需要根據具體情況進行分析和調整。在進行真空鍍膜時，需要保證各個方面的條件都符合要求，才能得到光滑、均勻、高質量的薄膜表面。