PVD是物理氣相沉積技術（Physical Vapor Deposition）的簡稱，是指在真空條件下，采用物理的方法將材料（俗稱靶材或膜料）氣化成氣態分子、原子或離子，并將其沉積在工件形成具有某種特殊功能的薄膜的技術，常見的PVD沉積技術有：蒸發技術、濺射技術、電弧技術。

    離子鍍膜技術是PVD技術的一種，是指在PVD沉積過程中，被鍍材料形成金屬或者非金屬等離子體（如Ti離子，N離子），等離子體在偏壓電場的作用下，沉積在工件表面上。由于離子鍍過程中，離子的能量更強，離子繞射性更好，膜層的結合力更好，膜層致密性也更好，膜層性能更好。

    離子鍍膜技術的應用非常廣泛，常見的有：裝飾性鍍膜，工具模具硬質鍍膜以及各種功能膜層。