PVD是英文Phyical Vapor Depoition（物理氣相沉積）的縮寫，是指在真空條件下，采用低電壓、大電流的電弧放電技術，利用真空鍍膜設備氣體放電使鈦板蒸發并使被蒸發物質與氣體都發生電離，利用電場的加速作用，使被蒸發物質及其反應產物沉積在工件上。                                                                                                              

PVD鍍膜通常稱謂：金屬表面處理,鍍膜,鍍鈦,真空鍍鈦，鍍鉻，鍍鈦加工，PVD，表面處理，鈦板，表面處理加工,真空鍍膜加工，表面處理等. 
    

金屬表面處理PVD鍍膜特點：增壽、增硬、增值,并以其硬高度、高耐磨、強抗腐蝕性、抗高溫、抗黏著性等優越的使用性能廣泛應用于模具工業中。