物理氣相沉積(Physical Vapor Deposition，PVD)技術是指在真空條件下采用物理方法將材料源（固體或液體）表面氣化成氣態原子或分子，或部分電離成離子，并通過低壓氣體（或等離子體）過程，在基體表面沉積具有某種特殊功能的薄膜的技術。

物理氣相沉積鍍膜主要分為三類蒸發鍍、濺射鍍和離子鍍。磁控濺射鍍只是濺射鍍的一種方法，不過最為主流。作為裝飾類鍍膜，現在以離子鍍最為常見。

以不銹鋼鈦金舉例，大致了解一下PVD技術。不銹鋼工件清洗干凈后進入真空罐，抽真空到10^-3Pa這個級別，再通入氮氣到0.1-1.0Pa，鈦金屬放電通過等離子化的氮氣，沉積到（負偏壓）的工件上。沉積物是金色的氮化鈦（TiN）。

這種裝飾性鍍膜，厚度一般都是低于1微米，別想著性能有多少好。當然了，如果有幾個微米厚度，那硬度就完美了，可以勝任切削刀具的鍍膜。

一般PVD單層就夠了，多層一般是為了增加結合力。多層每一次抽真空，時間都是很長（20-30min），效率低，單價高。另外性能好的鍍膜，沉積速度都不快，一般1微米/小時。