靶材是通過磁控濺射、電子束蒸發或其他類型的鍍膜系統（設備）在適當的工藝條件下，濺射在基板上形成各種功能薄膜的濺射源。

一般靶材主要由靶坯、背板等部分構成，其中，靶坯是高速離子束流轟擊的目標材料，屬于濺射靶材的核心部分，在濺射鍍膜過程中，靶坯被離子撞擊后，其表面原子被濺射飛散出來并沉積于基板上制成電子薄膜。

靶材產業鏈主要包括金屬提純、靶材制造、濺射鍍膜和終端應用等環節，靶材制造和濺射鍍膜環節是整個濺射靶材產業鏈中的關鍵環節。

其中，濺射鍍膜的品質對下游產品的質量具有重要影響。在濺射鍍膜過程中，濺射靶材需要安裝在機臺中完成濺射反應。#PVD鍍膜材料#

目前，薄膜材料的制備技術主要包括物理氣相沉積（PVD）技術和化學氣相沉積（CVD）技術。

其中PVD技術為主流鍍膜方法，具體是指在真空條件下采用物理方法，將某種物質表面氣化成氣態原子、分子或部分電離成離子，并通過低壓氣體過程，在基板材料表面沉積具有某種特殊功能的薄膜材料，根據操作技術可分為濺射鍍膜和真空蒸發鍍膜兩種方法。

PVD鍍膜材料用以制備各種具有特定功能的薄膜材料。主要的下游應用領域包括平板顯示器、半導體功能器件、太陽能電池、光學元器件等。

濺射機臺專用性強、精密度高，市場長期被美國、日本跨國集團壟斷，主要設備提供商包括AMAT（美國）、ULVAC（日本）、ANELVA（日本）、Varian（美國）等行業內知名企業。

國內高純濺射靶材生產企業已經逐漸突破關鍵技術門檻，擁有了部分產品的規?；a能力，形成了以江豐電子、阿石創、有研億金、隆華節能等為代表的專業從事高純濺射靶材的生產商。

江豐電子主要產品為各種高純濺射靶材，包括鋁靶、鈦靶、鉭靶、鎢鈦靶等，主要用于制備電子薄膜材料。目前，江豐電子產品主要應用于半導體、太陽能電池及平板顯示器等。

阿石創從事各種PVD鍍膜材料研發、生產和銷售，主導產品為濺射靶材和蒸鍍材料兩個系列。

有研億金主要產品包括高純金屬靶材、蒸鍍材料、口腔正畸器材、醫療用介入支架和貴金屬合金、化合物等，其靶材產品主要包括鋁及其合金靶材、鈦靶、銅靶、鉭靶等。

隆華節能收購的四豐電子主要從事高純金屬及合金材料業務，產品以鉬靶材為主。公司收購的晶聯光電主要從事氧化銦錫（ITO）靶材的研發、生產和銷

這些企業研發實力雄厚、管理體制健全、上升前景廣闊，將有望打破濺射靶材核心技術由國外壟斷的局面，擴大國產濺射靶材的市場份額。